Электроимпульсное плазменное спекание керамики на основе Si[2]N[2]O / Л. С. Алексеева, П. В. Андреев, П. Д. Дрожилкин [и др.] // Неорганические материалы. - 2022. - Т. 58, № 7. - С. 801-806 : 5 рис. - Библиогр.: с. 806 (17 назв. )
. - ISSN 0002-337X
ББК 35.42
Рубрики:
Химическая технология
Керамические изделия
Кл.слова (ненормированные): оксинитрид кремния -- электроимпульсное плазменное спекание -- керамика -- плотность -- оксиды иттрия -- оксиды алюминия
Аннотация: Изготовлены порошковые смеси на основе нано-Si[3]N[4] и оксидов иттрия и алюминия. Методом электроимпульсного плазменного спекания при давлении 80 МПа и скорости нагрева 50°C/мин получены образцы керамики с относительной плотностью 95-96%. Микроструктура образцов представляет собой зерна Si[2]N[2]O размером ~0. 7 мкм c распределенной между ними аморфной оксидной фазой. Наибольшая твердость (13. 3 ГПа) наблюдалась у образца с мольным соотношением оксидов Y[2]O[3] и Al[2]O[3] (2 : 1), полученного при температуре спекания 1770°C.
Держатели документа:
ТОНБ
Доп. точки доступа:
Алексеева, Л. С.
Андреев, П. В.
Дрожилкин, П. Д.
Болдин, М. С.
Сметанина, К. Е.
Мурашов, А. А.
Каразанов, К. О.
Щербак, Г. В.
Имеются экземпляры в отделах:
УЧЗПИ (4 этаж) (15.09.2022г. Экз. 1 - Б.ц.) (свободен)
|