Яфаров, Р. К. Влияние СВЧ плазменной микрообработки на электронные свойства поверхности кристаллов кремния (100) / Р. К. Яфаров, С. А. Климова // Журнал технической физики. - 2014. - Т. 84, № 3. - С. 103-107. - Библиогр.: c. 107 (6 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика Физика твердого тела. Кристаллография в целом Кл.слова (ненормированные): кремний -- плазменная микрообработка -- свч плазменная микрообработка -- микрообработка поверхности -- плотность ненасыщенных поверхностных связей -- атомно-чистые поверхности -- модификация поверхности -- электронная структура поверхности Аннотация: Рассмотрены возможности активного формирования электронных свойств поверхности полупроводниковых кристаллов за счет изменения условий их поверхностной обработки. Исследованиями поперечного электронного транспорта в гетероструктурах на основе кристаллов кремния (100) и туннельно-тонкой пленки аморфного гидрогенезированного карбида кремния показано, что вид вольт-амперных характеристик таких структур определяется различной плотностью ненасыщенных поверхностных связей, которые образуются при получении атомно-чистой поверхности кремниевых кристаллов заданной ориентации с использованием высокоионизованной СВЧ плазменной микрообработки в различных плазмообразующих средах. Держатели документа: ТОНБ Доп. точки доступа: Климова, С. А. Имеются экземпляры в отделах: УЧЗПИ (4 этаж) (07.05.2014г. Экз. 1 - ) (свободен) |