Рудницкий, А. С. Строгая модель многоволновой экспозиции в оптической литографии / А. С. Рудницкий, В. М. Сердюк // Журнал технической физики. - 2014. - Т. 84, № 5. - С. 113-118. - Библиогр.: c. 118 (8 назв. ) . - ISSN 0044-4642
Рубрики: Физика Физическая оптика Кл.слова (ненормированные): оптическая литография -- бесконтактная литография -- модель оптической литографии -- многоволновая экспозиция -- волны засветки -- дифракция плоских волн -- строгое решение задачи дифракции -- дифракционные поля -- нанолитография Аннотация: Рассмотрена теоретическая модель процесса бесконтактной оптической литографии с одновременным участием нескольких различных волн засветки, одна из которых падает на фотошаблон нормально, а остальные - под наклоном симметрично с обеих сторон. Модель базируется на строгом решении задачи дифракции плоской световой волны для упрощенной двумерной дифракционной структуры, состоящей из идеально проводящего экрана конечной толщины с одиночной щелью (шаблон) и полубесконечным поглощающим диэлектриком, расположенным за экраном (фоторезист). Рассмотрен актуальный случай нанолитографии, когда ширина щели, толщина экрана и расстояние до среды оказываются величинами порядка длины волны засветки. Установлено, что в этом случае оптимальное значение качества изображения щели достигнуто для двухволнового и трехволнового режимов экспозиции при одинаковых начальных фазах падающих волн и при углах падения боковых волн от 10 до 20{o}. Держатели документа: ТОНБ Доп. точки доступа: Сердюк, В. М. Имеются экземпляры в отделах: УЧЗПИ (4 этаж) (09.07.2014г. Экз. 1 - ) (свободен) |