Моделирование процесса резистивного динамического испарения в вакууме / Н. Л. Казанский [и др.] // Журнал технической физики. - 2017. - Т. 87, № 10. - С. 1483-1488. - Библиогр.: c. 1488 (47 назв. )
. - ISSN 0044-4642
ББК 22.365
Рубрики:
Физика
Газы и жидкости
Кл.слова (ненормированные): резистивное динамическое испарение -- резистивные динамические испарители -- термовакуумное испарение -- тонкие пленки
Аннотация: Представлена модель процесса резистивного динамического испарения в вакууме, учитывающая конструктивные особенности соответствующего испарителя. В рамках модели получены зависимости для определения времени нагрева материала до температуры испарения, а также динамических характеристик процесса испарения. Показано, что полученные характеристики являются негармоническими и периодически повторяющимися. Подтверждена адекватность разработанной модели физическому процессу. Установлено, что расхождение между экспериментальными и расчетными временными характеристиками движения заслонки составило не более 5%. Даны рекомендации по использованию предложенной модели в технологических процессах формирования тонких пленок многокомпонентных материалов методами термовакуумного испарения.
Держатели документа:
ТОНБ
Доп. точки доступа:
Казанский, Н. Л.
Колпаков, В. А.
Кричевский, С. В.
Подлипнов, В. В.
Имеются экземпляры в отделах:
УЧЗПИ (4 этаж) (24.11.2017г. Экз. 1 - ) (свободен)
|